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半導(dǎo)體水基清洗劑主要用于清洗表面沾污有石蠟、油脂和油脂類高分子化合物以及表面沾污有金屬原子和金屬離子等。在半導(dǎo)體分立器件和中、小規(guī)模集成電路中能夠完全代替?zhèn)鹘y(tǒng)半導(dǎo)體清洗工藝中使用的清洗液。 　　1、…

水清洗工藝設(shè)備主要由制純水、清洗、廢水處理三類設(shè)備組成。 　　水清洗設(shè)備分為以下三類：批次式水清洗設(shè)備，在一個(gè)清洗室內(nèi)完成清洗、漂洗、干燥等步驟，適合中小批量和多品種、小批量生產(chǎn)使用；多槽式清洗設(shè)…

過爐治具可以用治具清洗機(jī)進(jìn)行清洗， 治具清洗機(jī) 適用于夾具、冷凝器、濾網(wǎng)，同樣也適用于軍工、醫(yī)療精密電子五金等類似產(chǎn)品及器具的清洗。 治具清洗機(jī) 特點(diǎn)： 　　1、保障徹底的清洗效果,使您的…

水清洗工藝設(shè)備主要由制純水、清洗、廢水處理三類設(shè)備組成。 pcba清洗機(jī)、 水清洗設(shè)備分為以下三類：批次式水清洗設(shè)備，在一個(gè)清洗室內(nèi)完成清洗、漂洗、干燥等步驟，適合中小批量和多品種、小批量生產(chǎn)…

由于清洗要求的逐漸提高，半導(dǎo)體清洗設(shè)備的使用也越來越多，為了能讓設(shè)備與需求更加相符，無損清洗的理念被推出。也就是說，利用半導(dǎo)體清洗設(shè)備清洗的時(shí)候，不僅要體現(xiàn)出良好的清洗效果，還要更好的保護(hù)好清潔表面…

一般運(yùn)用半導(dǎo)體清洗設(shè)備清洗作業(yè)時(shí)，要了解半導(dǎo)體清洗機(jī)特性才調(diào)抵達(dá)非常好的清洗作用。半導(dǎo)體清洗設(shè)備的清洗進(jìn)程包含四個(gè)基本要素，這四個(gè)要素分別是：污染物、介質(zhì)、基體和清洗作用力。 　　可是咱們注重的疑…

在半導(dǎo)體器件和集成電路生產(chǎn)中，化學(xué)清洗主要包括三個(gè)方面： 　　一是半導(dǎo)體材料的清洗,這是化學(xué)清洗的重點(diǎn)。半導(dǎo)體材料主要有鍺、硅和砷化鎵。目前，碓器件最多、產(chǎn)量最大、應(yīng)用最廣，所以硅材料的清洗是化學(xué)清…